چکیده مقاله

در این مقاله به بررسی این سوال می پردازیم که چگونه میتوان پوشش کروم سه ظرفیتی را در تراکم جریان پایین (LCD) افزایش داد؟

تیترهای مهم این مقاله

فاکتورهای زیادی وجود دارد که میتوانند بر روی تراکم جریان پایین (LCD) در سیستم کروم سه ظرفیتی تاثیرگذار باشند. ما دراین مقاله مورد برخی از عوامل برای هردو سیستم( کلرایدی یا سولفاتی) بحث خواهیم کرد.

آلودگی فلزی

فلزات مزاحم معمولا مس، روی و نیکل هستند. بنابراین مهم است که با استفاده از تبادل یونی یا الکترولیز با جریان کم، غلظت این فلزات مزاحم را تا حد ممکن پایین نگه دارید. برای رسوب با کیفیت سازگار، تبادل یونی توصیه میشود.

PH حمام

حفظ PH در پایین ترین محدوده توصیه شده سرعت رسوب دهی را افزایش میدهد، اما باعث کاهش پوشش در نواحی LCD می شود. برعکس، حفظ PH در آستانه محدوده سرعت رسوب دهی را کاهش میدهد، اما پوشش در نواحی LCD را افزایش خواهد داد.

دما

کاهش دما در سیستم های برپایه سولفات باعث کاهش سرعت رسوب دهی میشود اما باعث افزایش پوشش در نواحی LCD میشود. باید مراقب بود که دما از پایین ترین آستانه توصیه شده کمتر نشود، در غیر این صورت نمک های رسانا حلالیت خود را از دست میدهند و در نتیجه باعث زبری رسوب میشوند.

غلظت کروم

افزایش غلظت فلز کروم با حفظ مقدار بیشتری در فیلم کاتدی و افزایش چگالی جریان میتواند اجازه دهد جریان بیشتری بدون سوختگی در نواحی با شدت جریان بالا اعمال شود و همچنین باعث افزایش پوشش دهی در نواحی LCD میشود.

نمک های رسانا

حفظ نمک های رسانا در بالاترین محدوده باعث افزایش پوشش در نواحی LCD، افزایش ظرفیت حمل جریان و در نتیجه افزایش بازدهی محلول میشود.

آندها

اگر سطح آند نسبت به اندازه قطعه کار مناسب نباشد و تراکم جریان آندی بیش از حد باشد، میتواند کروم شش ظرفیتی ایجاد کند که در ابتدا باعث کاهش پوشش در ناحیه LCD شده و سپس در صورت عدم اصلاح، پوشش دهی را به طور کامل متوقف میکند. برای سیستم های برپایه سولفات، آسیب به پوشش آند نیز میتواند باعث ایجاد کروم شش ظرفیتی شود.

تلاطم در محلول

تلاطم بیش از حد هوا باعث کاهش کارایی و کاهش پوشش دهی در نواحی LCD میشود (عمدتا در سیستم های برپایه کلراید). برعکس، یک سیستم با تلاطم مکانیکی که به درستی طراحی شده باشد، کارایی پوشش دهی را افزایش میدهد.

مواد افزودنی اختصاصی

فاکتورهای دیگری مانند کمپلکس کننده های اختصاصی، مواد افزودنی آلی و غیره، نیز میتوانند بر روی پوشش در نواحی LCD برای هر سیستم کروم سه ظرفیتی تاثیرگذار باشند، اما اینها به طور کلی کاربردی ترین محلول ها هستند. به طور کلی حفظ پارامترهای حمام در محدوده های توصیه شده، همراه با به حداقل رساندن فلزات مزاحم و بهینه سازی تلاطم محلول، میتواند شما را در آبکاری قطعات با هندسه های پیچیده موفق تر کند. اگر هنوز با پوشش در تراکم جریان های پایین مشکل دارید و یا قطعات با هندسه های بسیار دشواری برای آبکاری دارید، بالانس و تنظیم کردن پارامترهای حمام متناسب با سطح قطعه کار بهترین روش است.

منبــع

جواد یوسفی، نشـریه پیام آبکار، بهار 1400.

اشتراک گذاری مقاله

Share on facebook
فیسبوک
Share on linkedin
لینکدین
Share on whatsapp
واتساپ
Share on print
چاپ
Share on email
ایمیل

دیدگاه‌ خود را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد.

مقالات مرتبط

رکتیفایرهای IGBT

در مورد یکسو کننده ها می توان گفت رکتیفایرهای دیودی با ترانسفورمر غوطه ور در روغن، در حال منسوخ شدن میباشند و نسل جدیدی از آن ها در حال توسعه است

مقالات علمی

مشکلات موجود در صنعت ابکاری

متاسفانه نیمی از شرکت های آبکاری این پسابها را مستقیم وارد محیط زیست میکنند. این مسئله باعث مضرات جبران ناپذیری می باشد.

صنعت آبکاری

سیستم آبکاری در خلاء

این نوع پوشش دهی که تکنولوژی جدید ابکاری میباشد به سیستم پوشش دهی فیزیکی در خلاء با آبکاری در خلاء نیز معروف است.

روش های جلوگیری از تخریب وان های آبکاری

حدود 75% از کاربران وان های فرآیند آبکاری گزارشات مربوط به خرابی ها را داده اند. در اینجا چگونگی اجتناب از آسیب دیدگی وان ها را می آموزیم.

به بالای صفحه بردن